激光光掩模市场规模和份额分析 - 增长趋势和预测（2024 - 2029）

激光光掩模市场按光掩模类型（掩模版和母版）和地理位置进行细分。

激光光掩模市场规模和份额分析 - 增长趋势和预测（2024 - 2029）

激光光掩模市场规模

研究期 2019 - 2029
估计的基准年 2023
CAGR 2.00 %
增长最快的市场 亚太地区
最大的市场 亚太地区
市场集中度 中等的

主要参与者

*免责声明：主要玩家排序不分先后

激光光掩模市场分析

预计激光光掩模市场在预测期内（2021-2026年）复合年增长率将超过2%。光掩模是一块熔融石英板，上面覆盖着不透明、透明和相移区域的图案，这些区域在光刻过程中投影到晶圆上，以定义集成电路一层的布局。

  • 随着晶体管变得越来越小，光掩模变得越来越复杂，以将图案精确地转移到硅晶圆上。制造光掩模的工艺相应地变得更加先进，因为即使光掩模中的轻微缺陷也会影响硅器件的性能。
  • 验证光掩模图案是否无缺陷非常重要，特别是在高收入芯片的情况下。每个芯片都是半导体光刻工艺中的最终产品，其中不可或缺的一部分是由光源实现的光学光刻。这些光掩模使用的光源是深紫外（DUV）和极紫外（EUV）光源。
  • 随着大数据分析、人工智能、无人驾驶汽车技术商业化等应用对更高性能半导体的需求不断增长，EUV曝光作为下一代半导体制造技术而受到关注。这一趋势极大地推动了有效光掩模的生产。凸版于 2016 年开发了用于尖端半导体的下一代 EUV 光掩模。新型光掩模可最大限度地减少 EUV 曝光期间外围部分不必要的光反射，成为下一代半导体制造技术。

激光光掩模行业概况

激光光掩模市场竞争激烈，由几家主要参与者组成。许多公司通过推出新产品或进行战略并购来扩大市场占有率。

  • 2018 年 10 月 - 海德堡仪器推出 ULTRA 半导体激光掩模刻录机，这是生产 150 nm 设计节点光掩模最经济的解决方案。凭借其高吞吐量、最小特征尺寸、出色的覆盖、第二层对准和 CD 均匀性，ULTRA非常适合解决半导体行业的各种应用。
  • 2018 年 3 月 - Orbotech Ltd 和 KLA-Tencor Corporation 签订协议，根据该协议，KLA-Tencor 可能会收购 Orbotech，以显着实现 KLA-Tencor Corporation 收入基础的多元化。该协议旨在抓住高增长印刷电路板、平板显示器和半导体制造领域的市场机会。

激光光掩模市场领导者

  1. KLA-Tencor Corporation

  2. Applied Materials Inc.

  3. Photronics Inc.

  4. Nippon Filcon Co. Ltd

  5. Toppan Printing Co. Ltd

  6. *免责声明：主要玩家排序不分先后
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激光光掩模市场报告 - 目录

1. 介绍

  • 1.1 研究成果
  • 1.2 研究假设
  • 1.3 研究范围

2. 研究方法论

3. 执行摘要

4. 市场动态

  • 4.1 市场概况
  • 4.2 市场驱动因素和限制简介
  • 4.3 市场驱动因素
    • 4.3.1 越来越多地使用电子设备
    • 4.3.2 大数据和人工智能等技术的出现
  • 4.4 市场限制
    • 4.4.1 制造复杂性
  • 4.5 行业吸引力——波特五力分析
    • 4.5.1 新进入者的威胁
    • 4.5.2 买家/消费者的议价能力
    • 4.5.3 供应商的议价能力
    • 4.5.4 替代产品的威胁
    • 4.5.5 竞争激烈程度

5. 技术概览

  • 5.1 技术概览
  • 5.2 贸易类型
    • 5.2.1 俘虏
    • 5.2.2 商人

6. 市场细分

  • 6.1 按光掩模类型
    • 6.1.1 十字线
    • 6.1.2 大师赛
  • 6.2 地理
    • 6.2.1 北美
    • 6.2.2 欧洲
    • 6.2.3 亚太
    • 6.2.4 拉美
    • 6.2.5 中东和非洲

7. 竞争格局

  • 7.1 公司简介
    • 7.1.1 KLA-Tencor Corporation
    • 7.1.2 Applied Materials Inc.
    • 7.1.3 Photronics Inc.
    • 7.1.4 Nippon Filcon Co. Ltd
    • 7.1.5 Compugraphics
    • 7.1.6 Toppan Printing Co. Ltd
    • 7.1.7 SK-Electronics Co. Ltd
    • 7.1.8 Hoya Corporation
    • 7.1.9 LG Innotek Co. Ltd
    • 7.1.10 Taiwan Mask Corporation

8. 投资分析

9. 市场机会和未来趋势

**视供应情况而定
您可以购买此报告的部分。查看特定部分的价格
立即获取价格明细

激光光掩模行业细分

光掩模是用于生产元件的工具，包括电子器件（半导体）、显示器、PCB 和 MEMS。它是图案的主副本。

  • 电子设备 – 需要半导体/IC 使用光掩模的设备，例如 CPU 和其他存储设备。
  • 具有单一任务的离散组件 – 晶体管和存储器
  • 光接收/发射元件 - CCD/CMOS图像传感器和LED
  • 显示设备 – LCD 和 OLED
  • MEMS（微机电系统）- 加速度传感器
  • 硬盘磁头等。
按光掩模类型 十字线
大师赛
地理 北美
欧洲
亚太
拉美
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激光光掩模市场研究常见问题解答

目前激光光掩模市场规模有多大？

预计激光光掩模市场在预测期内（2024-2029）复合年增长率为 2%

激光光掩模市场的主要参与者是谁？

KLA-Tencor Corporation、Applied Materials Inc.、Photronics Inc.、Nippon Filcon Co. Ltd、Toppan Printing Co. Ltd 是激光光掩模市场的主要公司。

激光光掩模市场增长最快的地区是哪个？

预计亚太地区在预测期内（2024-2029 年）复合年增长率最高。

哪个地区的激光光掩模市场份额最大？

2024年，亚太地区将占据激光光掩模市场最大的市场份额。

该激光光掩模市场涵盖了哪些年份？

该报告涵盖了激光光掩模市场的历史市场规模：2019年、2020年、2021年、2022年和2023年。该报告还预测了激光光掩模市场的市场规模：2024年、2025年、2026年、2027年、2028年和2029年。

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