Tamanho do mercado de litografia EUV

Resumo do mercado de litografia ultravioleta extrema
Imagem © Mordor Intelligence. O reuso requer atribuição conforme CC BY 4.0.

Análise de mercado de litografia EUV

O tamanho do mercado de litografia EUV é estimado em US$ 10,34 bilhões em 2024, e deverá atingir US$ 17,81 bilhões até 2029, crescendo a um CAGR de 11,5% durante o período de previsão (2024-2029).

A litografia EUV utiliza luz com comprimento de onda de apenas 13,5 nm, o que representa uma redução de quase 14 vezes o comprimento de onda das outras técnicas de litografia na fabricação avançada de chips, a litografia Deep Ultraviolet, que utiliza luz de 193 nm. ASML, que é o player dominante no mercado, tem explorado maneiras de reduzir o tamanho dos transistores e fez avanços consideráveis ​​no campo da litografia EUV, que permite a produção mais precisa e eficiente de semicondutores em pequenas escalas de transistor em torno de 7 nm de tamanho de nó ou mesmo 5 nm.

  • À medida que as geometrias dos semicondutores tendem a ficar cada vez menores, a adoção da tecnologia de litografia EUV tornou-se extremamente importante, pois permite a redução de padrões intrincados em wafers, fornecendo uma escolha ideal e eficiente para aplicações de próxima geração, incluindo 5G, IA e Automotivo. A tecnologia EUV permite que os fabricantes de chips continuem impulsionando o dimensionamento dos chips, já que o comprimento de onda mais curto da luz EUV é capaz de imprimir as características em escala nanométrica dos designs relacionados às técnicas avançadas.
  • Espera-se que as ferramentas Extreme Ultraviolet (EUV) da TSMC atinjam a maturidade de produção, com a disponibilidade das ferramentas já atingindo as metas de produção em alto volume e potência de saída superior a 250 watts para operações diárias. Os fabricantes de chips estão apostando no EUV de 7nm, 5nm e além para lógica de ponta, e hoje não há outras opções disponíveis. As tecnologias de litografia de próxima geração não estão prontas e não podem ser aplicadas nas escalas de 7nm e 5nm. A 3 nm e além, os fabricantes de chips esperam usar EUV de alto NA, mas vários desafios ainda precisam ser superados no desenvolvimento desta tecnologia.
  • A TSMC também planeja iniciar a produção em volume de produtos de 3 nm até 2022. Samsung Electronics Co. Ltd, outro grande player no mercado, pretende ultrapassar a TSMC até 2030 com sua tecnologia de litografia ultravioleta extrema (EUV). A TSMC, anteriormente em dezembro de 2019, anunciou que a empresa começaria a fornecer chips baseados em processo de 5 Nm no primeiro semestre de 2020 e iniciaria a produção em massa de chips de processo de 3 nm em 2022. A empresa também prevê a produção de chips de processo de 2 nm. nm produtos de processo até 2024.
  • A ASML enfrentou dificuldades para exportar seus equipamentos devido ao COVID-19, afetando negativamente os principais produtores globais de semicondutores, incluindo Samsung Electronics e TSMC. Um atraso na entrega dos equipamentos da empresa está forçando as duas empresas a mudar seus roteiros estratégicos de desenvolvimento e produção. Devido a um atraso na entrega dos equipamentos da empresa, as duas empresas tiveram que alterar os seus planos estratégicos de desenvolvimento e produção. A TSMC adiou a produção de testes de semicondutores de 3 nm. Enquanto isso, a Samsung Electronics esperava iniciar a produção comercial de semicondutores de 5 nm em 2020, mas não conseguiu fazê-lo até o final de 2021.

Visão geral da indústria de litografia EUV

O Mercado de Litografia Ultravioleta Extrema está altamente consolidado, pois a ASML é o único fabricante de máquinas de litografia que utiliza luz ultravioleta extrema. A empresa fabrica e vende suas ferramentas para alguns fabricantes globais de semicondutores, incluindo Intel, Samsung e Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC). Quase 25% das receitas da empresa são geradas pelas vendas de sistemas de litografia EUV, o que reflete o monopólio da empresa na fabricação e comercialização de sistemas de litografia EUV.

  • Dezembro de 2021 ASML, um estoque importante na Europa, está trabalhando em uma nova versão de seu equipamento de litografia ultravioleta extrema, que é usado para esculpir padrões em pedaços de silício que produzem os processadores mais sofisticados do mundo. Samsung, TSMC e Intel usam os equipamentos EUV atuais da empresa para criar chips para a próxima geração de computadores e smartphones.
  • Março de 2021 A Samsung está aumentando sua produção de scanners EUV para competir com a TSMC, a maior fundição do mundo. Os scanners EUV, ao contrário das máquinas tradicionais, podem agilizar o processo de fabricação de chips, reduzindo o número de procedimentos de fotolitografia necessários para gerar circuitos mais finos, fazendo com que os principais fabricantes de chips concorram pela tecnologia.

Líderes de mercado de litografia EUV

  1. ASML Holding NV

  2. Intel Corporation

  3. Samsung Electronics Co. Ltd

  4. Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited

  5. Toppan Photomasks Inc.

  6. *Isenção de responsabilidade: Principais participantes classificados em nenhuma ordem específica
Concentração extrema do mercado de litografia ultravioleta
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Notícias do mercado de litografia EUV

  • Janeiro de 2022 A Intel declarou que começará a empregar scanners High-NA Twinscan EXE da ASML para fabricação de alto volume (HVM) em 2025, quando a empresa espera começar a usar sua técnica de produção 18A (1,8 nm). Com a primeira geração de tecnologia de litografia ultravioleta extrema (EUV), a Intel está obviamente atrás dos rivais TSMC e Samsung, mas pretende ser a primeira a implantar as ferramentas EUV da próxima geração.
  • Outubro de 2021 A Samsung Electronics disse na terça-feira que havia lançado a produção em massa de DRAM de 14 nanômetros (nm), que será produzida usando litografia ultravioleta extrema (EUV). Quando comparada com a litografia a laser Arf anterior, a litografia EUV permite que os fabricantes de semicondutores esbocem projetos de circuitos mais finos no wafer.

Relatório de mercado de litografia EUV – Índice

1. INTRODUÇÃO

  • 1.1 Premissas do Estudo e Definição de Mercado
  • 1.2 Escopo do estudo

2. METODOLOGIA DE PESQUISA

3. SUMÁRIO EXECUTIVO

4. INFORMAÇÕES DE MERCADO

  • 4.1 Visão geral do mercado
  • 4.2 Análise da cadeia de valor da indústria
  • 4.3 Atratividade da Indústria – Análise das Cinco Forças de Porter
    • 4.3.1 Poder de barganha dos fornecedores
    • 4.3.2 Poder de barganha dos compradores
    • 4.3.3 Ameaça de novos participantes
    • 4.3.4 Ameaça de produtos substitutos
    • 4.3.5 Intensidade da rivalidade competitiva
  • 4.4 Avaliação do impacto do COVID-19 na indústria

5. DINÂMICA DE MERCADO

  • 5.1 Drivers de mercado
    • 5.1.1 A tecnologia que resulta em uma produção mais rápida de microchips em comparação com outras
    • 5.1.2 Fabricantes de chips reduzindo o processo de fabricação para melhor eficiência
  • 5.2 Restrições de mercado
    • 5.2.1 Alto custo envolvido na substituição do Deep UV existente por lasers EUV
    • 5.2.2 Monopólio existente no mercado
  • 5.3 Instantâneo da tecnologia

6. SEGMENTAÇÃO DE MERCADO

  • 6.1 Tipo de Produto
    • 6.1.1 Fontes de luz
    • 6.1.2 Espelhos
    • 6.1.3 Máscaras
  • 6.2 Tipo
    • 6.2.1 Fundição
    • 6.2.2 Fabricantes de dispositivos integrados (IDMs)
  • 6.3 Geografia
    • 6.3.1 Coreia do Sul
    • 6.3.2 Taiwan
    • 6.3.3 Outros

7. CENÁRIO COMPETITIVO

  • 7.1 Perfis de empresa
    • 7.1.1 ASML Holding NV
    • 7.1.2 NTT Advanced Technology Corporation
    • 7.1.3 Canon Inc.
    • 7.1.4 Nikon Corporation
    • 7.1.5 Intel Corporation
    • 7.1.6 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited
    • 7.1.7 Samsung Electronics Co. Ltd
    • 7.1.8 Toppan Photomasks Inc.
    • 7.1.9 Ushio, Inc.

8. ANÁLISE DE INVESTIMENTO

9. FUTURO DO MERCADO

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Segmentação da indústria de litografia EUV

A litografia Ultravioleta Extrema (EUV) usa uma luz EUV de comprimento de onda extremamente curto de 13,5 nm. Ele permite a exposição de delicados padrões de circuito com meio passo abaixo de 20 nm que a litografia óptica convencional não consegue expor. Colocar a tecnologia em uso prático requer uma variedade de tecnologias de elementos, incluindo fonte de luz, óptica, máscaras, fotorresiste e ferramentas de litografia.

O mercado de litografia ultravioleta extrema é segmentado por tipo de produto (fontes de luz, espelhos, máscaras), Ens-User (fundição, fabricantes de dispositivos integrados) e geografia.

Tipo de Produto
Fontes de luz
Espelhos
Máscaras
Tipo
Fundição
Fabricantes de dispositivos integrados (IDMs)
Geografia
Coreia do Sul
Taiwan
Outros
Tipo de Produto Fontes de luz
Espelhos
Máscaras
Tipo Fundição
Fabricantes de dispositivos integrados (IDMs)
Geografia Coreia do Sul
Taiwan
Outros
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Perguntas frequentes sobre pesquisa de mercado de litografia EUV

Qual é o tamanho do mercado de litografia EUV?

O tamanho do mercado de litografia EUV deverá atingir US$ 10,34 bilhões em 2024 e crescer a um CAGR de 11,5% para atingir US$ 17,81 bilhões até 2029.

Qual é o tamanho atual do mercado de litografia EUV?

Em 2024, o tamanho do mercado de litografia EUV deverá atingir US$ 10,34 bilhões.

Quem são os principais atores do mercado de litografia EUV?

ASML Holding NV, Intel Corporation, Samsung Electronics Co. Ltd, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited, Toppan Photomasks Inc. são as principais empresas que operam no mercado de litografia EUV.

Que anos esse mercado de litografia EUV cobre e qual era o tamanho do mercado em 2023?

Em 2023, o tamanho do mercado de litografia EUV foi estimado em US$ 9,27 bilhões. O relatório abrange o tamanho histórico do mercado de litografia EUV para os anos 2019, 2020, 2021, 2022 e 2023. O relatório também prevê o tamanho do mercado de litografia EUV para os anos 2024, 2025, 2026, 2027, 2028 e 2029.

Página atualizada pela última vez em:

Relatório da Indústria de Litografia EUV

Estatísticas para a participação de mercado de litografia EUV em 2024, tamanho e taxa de crescimento de receita, criadas por Mordor Intelligence™ Industry Reports. A análise da litografia EUV inclui uma previsão de mercado para 2029 e uma visão histórica. Obtenha uma amostra desta análise do setor como um download gratuito em PDF do relatório.