マーケットシェア の 半導体露光装置 産業
市場はASML、Veeco、ニコンなど少数のベンダーに集中している。半導体製造の主要装置は基本的に米国と日本の企業が独占している。統合の進展と技術進歩、地政学的なシナリオにより、調査された市場は変動している。また、垂直統合の進展に伴い、収益に起因する投資能力を考慮すると、調査市場の競争激化は今後も続くと予想される
- 2022年9月 - キヤノンが半導体露光装置向けソリューションプラットフォーム「Lithography Plus1を発表。キヤノンの半導体露光装置サポートにおける50年以上の経験と膨大なデータをシステムに取り込み、サポート効率を最大化し、最適なシステムプロセスを提案・実現する。
- 2022年6月 - サムスンとASMLは、High-NA（高開口数）EUVリソグラフィ装置の開発で協力することで合意。次世代High-NA EUVリソグラフィ装置は、旧来のEUVリソグラフィ装置と比較して、より微細な回路を描画することができる。
半導体リソグラフィ装置市場のリーダー
-
Canon Inc.
-
Nikon Corporation
-
ASML Holding NV
-
Veeco Instruments Inc.
-
SÜSS MicroTec SE
*免責事項:主要選手の並び順不同
