プラズマエッチング装置 市場規模

プラズマエッチング装置市場分析

プラズマエッチング装置市場は予測期間中にCAGR 7.8%を記録すると予測されている。プラズマエッチング装置の需要は、予測期間中、さらに小さな寸法を達成するためのエッチングプロセスの使用により、エッチング技術と関連装置の重要性が高まっていることが背景にあると見られている。プラズマエッチングは、マイクロエレクトロニクス産業における微細化に対する厳しいプロセス要求に対応するための様々な修正を可能にしている

• プラズマエッチングは洗練された汎用性の高い技術であり、さまざまなデバイスを作成する。今日、半導体メーカーは、化学薬品の消費量が少なく、自動化や枚葉製造に適していることから、従来のウェット・エッチングからプラズマ・エッチング・システムへの切り替えを進めている。小型でエネルギー効率に優れ、性能も向上した電子機器に対する需要の高まりは、半導体集積回路（IC）の小型化の必要性を高めている。ICを小型化するためには、小さなジオメトリで高度な回路製造プロセスを経なければならず、そのため精密なパターン転写が必要となる。
• プラズマ・エッチングは、半導体および微小電気機械システム産業で広く使用されている。例えば、プリント回路基板（PCB）の製造では、等方性エッチングは、機械加工後、電気メッキの前に回路をプラズマ洗浄するために使用される。異方性エッチングは、ウェハーに回路パターンを形成するために使用される。この異方性プラズマエッチングは高エネルギーであり、反応性イオンエッチング（RIE）と呼ばれる。
• さらに、世界中のさまざまな消費者に技術的に高度なインテリジェントデバイスを提供するためにIoTアプリケーションで行われている大規模な技術的アップグレードも、高度な半導体の需要を加速し、それによって市場の成長にプラスの影響を与えると予測されている。IoTアプリケーションの成長に伴い、スマートデバイスが増加し、半導体の小型化が進み、プラズマエッチングの需要が高まっている。
• スマートフォンや、半導体ICを必要とするその他のアプリケーションは、家電、自動車、その他の産業におけるプラズマエッチングの需要を全体的に押し上げている他の要因であり、無線技術（5G）や人工知能のような技術の進歩がこれらの分野の動向に大きな影響を与えている。また、モノのインターネット（IoT）デバイスの増加により、半導体業界はインテリジェント製品を実現するためにこの装置への投資を余儀なくされると予想される。SEMI Silicon Manufacturers Group (SMG)は、シリコンウェーハ業界の四半期レビューで、2021年第3四半期の世界のシリコンウェーハ出荷量が3.3%増の36億4900万平方インチとなり、業界最高を更新したことを明らかにした。2021年第3四半期のシリコンウェーハ出荷量は前年同期比16.4％増の31億3500万平方インチとなった。
• しかし、この装置はウェットケミカルエッチング装置よりもコストが高いことが多い。また、ウェットケミカルエッチングではレジストの消費が早いため、ウェットケミカルエッチング装置に比べて選択性が低下する。これらは市場成長を阻む主な要因の一部である。
• COVID-19の大流行により、半導体製造装置業界ではいくつかの品目の製造が停止され、世界中のほとんどの地域で封鎖措置が継続された。封鎖措置は民生用電子機器の需要を減少させ、半導体セクターにも世界的な影響を与えた。自動車の世界的な需要と輸出出荷の継続的な減少は、半導体市場にマイナスの影響を与え、現在、半導体製造装置の需要を減速させている。しかし、産業活動が大流行前の水準に戻れば、需要は徐々に牽引力を増すと予想される。