世界の誘電エッチング装置市場規模と市場規模株式分析 - 成長傾向と成長傾向予測 (2024 ~ 2029 年)

誘電体エッチャーの世界市場は、タイプ別(ウェットエッチング、ドライエッチング、原子レベルエッチング)、地域別に区分されます。

誘電エッチング装置の市場規模

誘電体エッチャー市場
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調査期間 2019 - 2029
推定の基準年 2023
CAGR 5.40 %
最も成長が速い市場 アジア太平洋地域
最大の市場 アジア太平洋地域
市場集中度 低い

主なプレーヤー

誘電エッチャーの世界市場

*免責事項:主要選手の並び順不同

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誘電エッチャーの市場分析

誘電体エッチャーの世界市場は、予測期間2022年から2027年にかけて年平均成長率5.4%を記録すると予測されている。小型・モバイル機器に使用されるICの小型化需要の高まりが市場を牽引すると予想される。現在の電子機器は、5~20nmの回路線幅の半導体を使用しているが、原子レベルのエッチングプロセスの出現と、消費電力の少ないICの小型化需要により、回路線幅の範囲は0~10nmに押し上げられるだろう。

  • ニューロモルフィック・チップの需要増加がエッチャー市場を牽引する。人工知能、データ処理、分析に対する需要の高まりは、世界中でニューロモルフィック・チップの技術革新と採用に影響を与えている主な要因である。エッチング技術は、ウェハ上のコーティングや材料を選択的に除去することにより、チップの特徴を作り出すのに役立ちます。これらの手順は、除去が困難な材料の組み合わせで、ますます小さく複雑な特徴を作り出すことを必要とする。
  • 世界の誘電エッチャー市場の最新トレンドは、3D ICの出現です。エネルギー消費量の少ない高速コンピューティングデバイスへの需要の高まりが、3Dチップ積層への需要を大きく後押ししています。航空宇宙、自動車、医療などの分野における電子デバイスの小型化ニーズの高まりは、0~10nm、さらには原子レベルの精度で構造を変化させることができる誘電体エッチャーの需要を促進します。
  • エッチ法はまた、チップ・パッケージングや微小電気機械システム統合(MEMS)を可能にするスルーシリコン・ビア(TSV)のような、高さのある高アスペクト比の特徴も作り出す。例えば、ラムリサーチ社のプラズマエッチングシステムは、高さ、幅、高さ、幅から数オングストロームサイズに至るまで、精密な構造を構築するのに必要な高性能・高生産性を提供します。
  • アプライド マテリアルズは2021年5月、DRAMの微細化とチップの性能、消費電力、面積、コスト、市場投入期間(PPACt)の最適化を実現する3つの新たな材料エンジニアリングソリューションを発表した。DRAMメーカーは、アプライド マテリアルズが開発した低誘電率材料であるブラックダイヤモンドを使用して、ロジック配線のスケーラビリティ問題を解決しています。
  • COVID-19の発生は、2020年の初期段階においてサプライチェーンと生産を大きく混乱させた。その影響は、半導体エッチング装置の主要エンドユーザーである半導体メーカーにとってより深刻であった。人手不足のため、半導体サプライチェーンの多くのプレーヤーが操業の縮小、あるいは停止を余儀なくされた。業界は高赤字と需要増にさいなまれ、サプライチェーンに大きなギャップが生じた。ウィルスの最初の広がりは、自動車などの主要セクターにおけるチップ需要の減少を恐れ、ファウンドリーの操業停止や稼働率低下につながった。生産量の減少は、半導体ファウンドリーによる当初の予測にもかかわらず、需要が増加するにつれて世界的な半導体不足につながった。

誘電エッチャーの市場動向

ニューロモルフィック・チップへの需要が誘電体エッチャー市場を押し上げる

  • ニューロモルフィック・チップは、生物学的な脳の処理能力にヒントを得て高速かつ低消費電力で学習するデータ・プロセッサーであり、数百万個のニューロンの能力を備えている。このチップのサイズはモバイルに十分なほど小さく、応用範囲は広い。
  • また、AIベースの新興企業は日々増加している。AIが可能にする技術は、処理にニューロモルフィック・チップを必要とする。したがって、人工知能、データ処理、分析に対する需要の高まりは、世界中のニューロモルフィックチップの技術革新と採用に影響を与える主要因であり、これが誘電エッチャー市場を牽引すると予想される。
  • 人工知能、データ処理、分析に対する需要の高まりは、世界中でニューロモルフィックチップの採用を促進する重要な要因であり、それによって誘電体エッチャーのニーズが生まれる。さらに、高度なインテリジェントデバイスのためのモノのインターネットアプリケーションの急速な技術的アップグレードも、技術的に高度な半導体の需要を押し上げると予測されています。そのため、誘電体エッチングの需要が大きく伸びると予測されています。
  • DRAMは、世界経済のデジタル移行により高い需要がある。モノのインターネットにより、エッジにコンピュータデバイスが大量に追加され、その結果、処理のためにクラウドに転送されるデータが飛躍的に増加する。業界では、DRAMをより高速に動作させ、消費電力を抑えながら、サイズとコストを縮小できるような進歩が求められており、これが市場成長の原動力となっている。
  • スマートフォンや、半導体ICを必要とする民生用電子機器市場のその他のアプリケーションは、誘電体エッチャーの需要を促進している。さらに、モノのインターネット(IoT)デバイスの数が増えるにつれて、半導体業界はより革新的な製品を製造するためにこの技術に投資することを目指しています。
誘電エッチャー市場

アジア太平洋地域が大きなシェアを占める

  • 世界中のクアルコム、ブロードコム、Nvidia、MediaTek、アップル、AMDなどの統合デバイスメーカー(IDM)は、チップセットのレイアウトを設計し、TSMC、UMC、SMICなどのチップセットメーカーに製造を委託するファブレス・ビジネスモデルを採用している。ファブレス・ビジネスモデルは、売上を維持するために必要な高い生産量を維持しながら、新技術の研究開発に利益を集中させることができる。
  • TSMC、UMC、DB Hitek、SMICなどの組織は、ファウンドリーを活用して、顧客の要求仕様と生産量に応じてチップセットを生産している。これらのファウンドリの主要なシェアは、中国、台湾、韓国で運営されている。
  • 原子層エッチング(ALE)は、浅い構造で優れた深さ制御を提供する洗練されたエッチングプロセスである。デバイスのフィーチャーサイズが小さくなるにつれ、性能向上に必要な精度を達成するためにALEの必要性が高まっている。
  • 最先端のマイクロエレクトロニクスデバイスの製造には、高忠実度のパターン転写(エッチング)が必要です。フィーチャーが10nm以下のサイズに縮小し、新しいデバイスが極薄の2D材料を使用するようになると、原子レベルの精度がより重要になります。このため、従来の(連続)エッチングの限界を原子レベルで克服する技術である原子層エッチング(ALE)の需要が高まった。
  • TSMCはアップルのAシリーズチップの独占製造メーカーとなっている。このチップセットは、A13と呼ばれる7ナノメーターのチップセットを使用して製造される。また、アジア太平洋地域では自動車用電子機器産業が非常に盛んで、市場成長の機会が豊富にある。
誘電エッチャー市場

誘電エッチャー産業概要

世界の誘電エッチャー市場は非常に競争が激しい。大小さまざまなプレーヤーが存在するため、市場は非常に集中している。大手企業はいずれも市場で大きなシェアを占めており、世界中の消費者基盤の拡大に注力している。市場の主要プレーヤーには、アプライドマテリアルズ、日立ハイテクノロジーズ、ラムリサーチ、東京エレクトロン、マットソンテクノロジー、Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc.などがある。各社は、予測期間中に競争力を獲得するために、複数のパートナーシップを形成し、新製品の導入に投資することで市場シェアを拡大している。

  • 2022年7月 - 東京エレクトロンとIBMは、ガラスウエハーベースの必要性をなくし、プロセスを合理化する最新のフロント3Dチップ積層で協業した。IBMと東京エレクトロンは、3Dチップ製造のためのシリコンキャリアウェーハを欠点なしに実現する方法を発見した。このプロセスは、新しい300mmモジュールを使って実証されたもので、両社によれば、300mmレベルでの初の3D積層シリコン・チップ・ウェーハである。IBMは、3Dチップ積層技術への多大な投資が半導体の生産プロセスを合理化し、世界的なチップ不足に一筋の光明をもたらすことを期待している。
  • 2022年6月-ラムリサーチがSKハイニックスと協力し、ドライレジスト極端紫外線技術でDRAMの生産コスト効率を高める。ラムの革新的なドライレジスト製造技術は、先進的なDRAMチップを製造するための2つの重要なプロセス工程の開発ツールです。LAMが2020年に導入したこのドライレジスト技術は、次世代半導体の製造において極めて重要な技術であるEUV(極端紫外線)リソグラフィーの歩留まり、解像度、生産性、および生産性を向上させます。材料レベルでは、ラムのドライレジスト技術はEUVリソグラフィの最大の課題に対処し、高度なメモリとロジックのためのコスト効率の高いスケーリングを可能にします。

誘電エッチャー市場のリーダー

  1. Applied Materials, Inc.

  2. Hitachi High-Technologies Corporation

  3. Lam Research Corporation

  4. Tokyo Electron

  5. Mattson Technology, Inc.

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誘電エッチャー市場ニュース

  • 2022年6月-チップの微細化が進むにつれて、従来の材料では所望の厚みで同じ性能が得られなくなり、新しい材料が必要になる可能性がある。ラムリサーチは、先端ロジックおよびDRAM向けの新しい成膜技術であるSPARCを発表しました。SPARC成膜は、低誘電率、コンフォーマル性、高いパターン負荷、均一な膜厚、Siベースの酸化物に対する優れたエッチング選択性、カーボンタイプの材料、デバイス内の非常に低いリークなどの主要な特性をもたらす。
  • 2022年3月 - アプライドマテリアルズ社は、次世代チップ向けの高選択性エッチングを発表した。高選択性エッチングでは、ICの製造工程で、専用のエッチングツールが微小なチップ構造内の材料を除去またはエッチングする。さらに、これらの高選択性エッチングツールは、デバイスの他の部分を損傷することなく、あらゆる方向(等方性)の材料を除去することができる。既存のエッチングツールの中には、ある程度選択的なエッチングが可能なものもありますが、その能力には限界があります。

誘電エッチャー市場レポート-目次

  1. 1. 導入

    1. 1.1 研究の前提条件と市場定義

      1. 1.2 研究の範囲

      2. 2. 研究方法

        1. 3. エグゼクティブサマリー

          1. 4. 市場洞察

            1. 4.1 市場概況

              1. 4.2 業界の魅力 - ポーターのファイブフォース分析

                1. 4.2.1 サプライヤーの交渉力

                  1. 4.2.2 消費者の交渉力

                    1. 4.2.3 新規参入の脅威

                      1. 4.2.4 代替品の脅威

                        1. 4.2.5 競争の激しさ

                        2. 4.3 新型コロナウイルス感染症(COVID-19)の市場への影響

                        3. 5. 市場力学

                          1. 5.1 市場の推進力

                            1. 5.1.1 ニューロモーフィックチップの世界的な需要

                              1. 5.1.2 3D ICの登場

                                1. 5.1.3 電子機器の小型化

                                2. 5.2 市場の挑戦/抑制

                                  1. 5.2.1 初期費用が高い

                                3. 6. 市場セグメンテーション

                                  1. 6.1 タイプ別

                                    1. 6.1.1 ウェットエッチング

                                      1. 6.1.2 ドライエッチング

                                        1. 6.1.3 原子レベルエッチング (ALE)

                                        2. 6.2 地理別

                                          1. 6.2.1 北米

                                            1. 6.2.2 ヨーロッパ

                                              1. 6.2.3 アジア太平洋地域

                                                1. 6.2.4 世界のその他の地域

                                              2. 7. 競争環境

                                                1. 7.1 会社概要

                                                  1. 7.1.1 Applied Materials, Inc.

                                                    1. 7.1.2 Hitachi High-Technologies Corporation

                                                      1. 7.1.3 Lam Research Corporation

                                                        1. 7.1.4 Tokyo Electron Limited

                                                          1. 7.1.5 Mattson Technology

                                                            1. 7.1.6 Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc.

                                                              1. 7.1.7 Jusung Engineering

                                                                1. 7.1.8 Oxford Instruments

                                                                  1. 7.1.9 セメス株式会社 株式会社

                                                                    1. 7.1.10 ULVAC, Inc.

                                                                  2. 8. 投資分析

                                                                    1. 9. 市場の未来

                                                                      **空き状況によります
                                                                      bookmark このレポートの一部を購入できます。特定のセクションの価格を確認してください
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                                                                      世界の誘電体エッチング市場は、タイプ別(ウェットエッチング、ドライエッチング、原子レベルエッチング)、地域別に区分される。誘電体エッチングでは、エッチングレートは重要なドライバーではなく、伝統的なダイオードタイプのチャンバーが使用され、そうでなければ高密度プラズマシステムが使用される。場合によっては、メーカーはこれらの基本システムに、側壁の損失を減らしプラズマを閉じ込めるための磁気強化機能を追加している。モバイル機器における高性能チップセットへの需要の高まりと半導体製造技術の高速化に伴い、誘電体エッチングはファウンドリでますます普及している。アトミックレベル・エッチングの出現により、ファウンドリは顧客の要求に応えることができるようになり、回路幅のライニングを小型化することもできるようになりました。

                                                                      タイプ別
                                                                      ウェットエッチング
                                                                      ドライエッチング
                                                                      原子レベルエッチング (ALE)
                                                                      地理別
                                                                      北米
                                                                      ヨーロッパ
                                                                      アジア太平洋地域
                                                                      世界のその他の地域
                                                                      customize-icon 別の地域やセグメントが必要ですか?
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                                                                      誘電エッチャー市場に関する調査FAQ

                                                                      世界の誘電エッチング装置市場は、予測期間(5.40%年から2029年)中に5.40%のCAGRを記録すると予測されています

                                                                      Applied Materials, Inc.、Hitachi High-Technologies Corporation、Lam Research Corporation、Tokyo Electron、Mattson Technology, Inc.は、世界の誘電体エッチング市場で活動している主要企業です。

                                                                      アジア太平洋地域は、予測期間 (2024 ~ 2029 年) にわたって最も高い CAGR で成長すると推定されています。

                                                                      2024年には、アジア太平洋地域が世界の誘電体エッチング市場で最大の市場シェアを占めます。

                                                                      このレポートは、2019年、2020年、2021年、2022年、2023年の世界の誘電体エッチング市場の歴史的市場規模をカバーしています。また、レポートは、2024年、2025年、2026年、2027年、2028年、2029年の世界の誘電体エッチング市場規模を予測します。

                                                                      世界の誘電エッチャー産業レポート

                                                                      Mordor Intelligence™ Industry Reports によって作成された、2024 年の世界の誘電体エッチング装置市場シェア、規模、収益成長率の統計。グローバルな誘電体エッチング装置の分析には、2029 年までの市場予測見通しと過去の概要が含まれています。この業界分析のサンプルを無料のレポート PDF ダウンロードとして入手してください。

                                                                      close-icon
                                                                      80% のお客様がオーダーメイドのレポートを求めています。 あなたのものをどのように調整したいですか?

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