原子層蒸着装置市場規模
| 調査期間 | 2019 - 2029 |
| 市場規模 (2024) | USD 91.7億ドル |
| 市場規模 (2029) | USD 201.4億ドル |
| CAGR(2024 - 2029) | 17.02 % |
| 最も成長が速い市場 | アジア太平洋地域 |
| 最大の市場 | 北米 |
| 市場集中度 | 低い |
主なプレーヤー
*免責事項:主要選手の並び順不同 |
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原子層蒸着装置市場分析
原子層蒸着装置の市場規模は、17.02%年に91億7,000万米ドルと推定され、2029年までに201億4,000万米ドルに達すると予測されており、予測期間（2024年から2029年）中に17.02％のCAGRで成長します。
世界的な原子層堆積市場の拡大を推進する重要な要因の 1 つは、世界中でエレクトロニクスおよび半導体ソリューションの採用が増加していることです。
- 新しい材料と設計を使用してチップ生産を改善することで、原子層堆積ソリューションの需要が高まります。小型化への傾向は世界中の産業界で受け入れられています。その結果、現在、小型電子機器や機械に対するニーズが高まっています。
- Cisco によると、2030 年までに約 5,000 億台のデバイスがインターネットに接続される予定です。各マシンには、データを収集し、環境と対話し、ネットワーク経由で通信するセンサーが含まれています。これらのアプリケーションには、小型のストレージデバイスとICが必要です。接続されたデバイスの数の増加により生成されるデータ量の増加により、ストレージデバイスの需要が増加し、それが市場の成長を推進しています。
- CMOS プロセッサ、メモリ デバイス、MEMS、およびセンサーで使用される High-k 誘電体膜は、半導体業界では ALD を使用して頻繁に製造されます。燃料電池や耐腐食性や耐摩耗性が必要なその他の用途における機能性および保護コーティングの作成には、ALD 技術が使用されます。次世代デバイスの開発では、ナノワイヤやナノチューブなどの高アスペクト比構造のコーティングにも使用されます。
- 半導体の作成には、銅電極、High-K 誘電体ゲート スタック、銅バリア/シード層などのさまざまな堆積ツールが使用されます。たとえば、インドの国家投資促進局が発表したデータによると、インドの電子機器の国内生産は2014～15年の290億ドルから2020～21年の670億ドルに増加した。 2022 年 3 月に連合商工省の一部となる円滑化庁。
- さらに、ロボットの使用の拡大と製造の自動化により、半導体の売上が増加し、ALD 技術の市場が促進されると予想されます。産業オートメーションは現在、実質的にすべての重要な生産産業の性質を変えています。インダストリー 4.0 標準の採用と、データ分析のための協働ロボティクス、AR/VR、AI の使用の増加は、ALD 市場に利益をもたらすと予想されます。
- さらに、ＡＬＤ薄層は、ナノスケールトランジスタ内の隣接するコンポーネントを電気的にシールドするためにマイクロエレクトロニクスにおいて利用され得る。 ALD は、複雑な 3D 表面上に正確なナノスケールのコーティングを作成することに特に優れています。たとえば、現代のコンピュータプロセッサを製造するために使用されるシリコンウェーハにエッチングされた深くて狭いトレンチです。これは、世界中の研究者に、今後の半導体デバイス世代向けの新しい薄膜 ALD 材料を作成するよう促すきっかけとなりました。
- 予測期間中、研究開発に必要な多額の投資が世界の原子層堆積市場の成長を抑制すると予想されます。 ALD はアプローチが遅いため、重大な制限があることが認識されています。
- 原子層堆積業界のサプライチェーンは、新型コロナウイルス感染症（COVID-19）の流行により依然として打撃を受けている。新型コロナウイルス感染症は多くの国に大きな影響を与えています。労働力不足と原材料供給の混乱により、パンデミックにより原子層堆積材料の生産が妨げられています。こうした国際貿易の混乱により、進行中のプロジェクトの開発が遅れ、資本支出（CAPEX）が増加し、原子層堆積の供給が停止されました。
原子層堆積装置の市場動向
半導体とエレクトロニクス産業が市場成長を牽引
- 半導体産業とエレクトロニクス産業からの需要が、原子層堆積技術の主な原動力になると予想される。半導体産業がこの技術の発展に直接影響を与えると予想される一方で、エレクトロニクス産業の拡大はその進歩に寄与するだろう。その結果、原子層堆積装置の需要が高まっている。
- チップ不足の結果としてメーカーが発表した世界的なファブ生産能力拡張の後、原子層蒸着（ALD）プレーヤーは新たな成長機会を利用する準備をしている。最近、300mm ALDプラットフォームは、More-than-Moore（MtM）デバイスや、MEMS、センサー、パワーおよびRFデバイス、フォトニクスなどのアプリケーションの要件を満たすために改良されてきた。以前は、200mm ALDプラットフォームが市場のニーズを満たすように設計されていた。ウエハー生産量が増加した現在、ALDソリューションが拡大し、MtMデバイス市場に加わることが期待されている。
- ALDが半導体産業で脚光を浴びるようになったのは、高誘電率の酸化物材料を成膜するためである。例えば、従来の金属酸化物半導体電界効果トランジスタのゲート絶縁材料として、熱成長させたSiO2をALDで形成したHfO2に置き換えた。ALDの使用を必要とするアプリケーションの数は、近年著しく増加している。
- エレクトロニクス分野は、周期的に浮き沈みがある。エレクトロニクス産業の短中期見通しは明るい。2024年までに、モバイル契約数は約89億件、モバイルブロードバンド契約数は約84億件、ユニークモバイルユーザー数は約62億人になると、エリクソンのモビリティレポートは予測している。これにより、ALD技術の開発が加速すると予想される。
- 予測期間中、民生用電子機器とマイクロエレクトロニクスの売上が伸び、半導体ICの需要が増加すると予想される。半導体ICの需要増加は、半導体デバイスメーカーの製造能力を引き上げ、原子層堆積装置市場の需要を増加させる可能性がある。
- 次世代半導体デバイスの製造には、低温（400℃）で高アスペクト比のナノ構造上に高コンフォーマル（95％以上）のSiO2、SiNx、SiC膜を成膜する必要がある。原子層堆積法は、半導体製造における化学蒸着法に取って代わりつつあり、このようなSiベースの誘電体膜の開発を可能にしている。ALD堆積SiO2膜は、すでに半導体デバイスの製造に利用されている。
- RFおよびパワーエレクトロニクスの拡大は、ALD技術の進歩をさらに後押ししている。極端な環境条件は、活性部品を損傷・腐食させ、早期故障につながる可能性がある。こうした環境条件には、高温、酸素、紫外線、塩分、水分などが含まれる。原子層堆積法（ALD）のおかげで、これらの部品の性能と信頼性が同じ理由で大幅に向上する。
この市場を形作る主な傾向を理解する
アジア太平洋地域が最も高い成長率を記録する見込み
- アジア太平洋地域は、エレクトロニクス産業の普及にとって最も重要な地域であり続けている。アジア太平洋地域は、エレクトロニクス産業におけるOEMの拠点となっている。さらに、ベトナムのような新興国がこの産業に多額の投資を行い、さまざまな地域諸国間の健全な競争につながっている。さらに、台湾や中国のような確立されたハブは、研究開発に多額の投資を続けており、市場成長を促進するイノベーションにおいて常に時代の先端を行くことができる。
- 中国全土のデータトラフィック（IPおよびモバイルデータトラフィック）が異常に増加しているため、サーバーメモリー需要は増加すると予想される。シスコシステムによると、中国ではIoTが具体化しており、ネットワーク機器の数は2016年の35億台に対し、2021年にはほぼ55億台に達すると予想されている。
- 原子層蒸着は、太陽電池やデバイスのコンフォーマルコーティングに一般的に利用されている。この点を考慮すると、太陽電池デバイスの需要増加と様々な地域国での太陽電池産業の増加により、予測期間を通じて対象市場は発展すると予想される。さらに、APAC 地域の政府は、太陽電池産業を拡大するために絶えず様々な投資を行っており、これが ADL ソリューションの需要を促進している。
- 例えば、政府の主要制度である生産連動型奨励金（PLI）制度では、製造企業は太陽電池モジュール工場の稼働開始後5年間にわたって奨励金を受け取ることができ、インド政府は2022年度連邦予算で太陽電池モジュールの製造を支援するために19,500クロー（25.7億米ドル）の割り当てを発表した。インド電力省によると、2021年から2022年にかけてのインドの太陽電池輸入総額の78.6%を中国が占め、中国から出荷された太陽電池セルとモジュールだけで766億2,000万米ドル近くにのぼる。
- 自動車は、製造にALD装置とシステムを使用するもう一つの重要な分野である。自動車産業もまた、薄膜の主要なユーザーである。例えば、薄膜は様々な部品のサイズを小さくし、寿命を延ばすことができる。自動車産業では、コストと環境を節約するために薄膜が使われている。これは、一般的に使用される構造要素の重量を減らし、耐用年数を向上させ、結果としてナノ材料の製造品質を向上させることによって行われる。
- アジアは、ホンダ、トヨタ、三菱、日産、現代、タタ・モーターズ、マルチなど、世界最大級の自動車メーカーの本拠地であり、中国やインド、日本、韓国といった国々がアジア自動車セクターの強国となっている。このようなOEM以外にも、多くの部品メーカーや自動車アクセサリーメーカーがALD装置や機器を製造要件に使用している。
- 半導体デバイスの製造において重要なアプローチは原子層堆積法であり、気相化学プロセスの使用に依存する薄膜堆積プロセスである。この地域のプレーヤーは、研究開発プログラムへの投資を積極的に行い、生産効率を向上させ、世界最速の市場拡大をリードしている。
重要な地理的市場に関する分析を取得する
原子層堆積装置産業概要
原子層蒸着装置市場は、複数のプレーヤーが事業を展開しているため断片化されている。市場のプレーヤーは、市場シェアを獲得するために合併、買収、パートナーシップなどの戦略を採用している。
2022年9月、半導体および先端ウェーハレベルパッケージング（WLP）アプリケーション向けウェーハプロセスソリューションのサプライヤーであるACM Research, Inc.は、Ultra Fn Aファーネスツールの導入により、300mm Ultra Fnファーネスドライプロセッシングプラットフォームの拡張を発表した。Ultra Fn Aシステムは、ACMがサポートする広範なファーネスアプリケーションのリストに熱原子層蒸着（ALD）を追加します。
2021年12月、原子層堆積法（ALD）による工業生産の先駆者であるBeneqは、Transform 300やProdigyといった半導体デバイス製造用の2つの新製品を発表した。Beneqは、大成功を収めたBeneq Transform製品ファミリーを発売し、ALDクラスターツールに革命をもたらしました。
原子層堆積装置市場のリーダーたち
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Applied Materials Inc.
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Lam Research Corporation
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Veeco Instruments Inc.
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Tokyo Electron Limited
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ASM International N.V.
*免責事項:主要選手の並び順不同
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原子層堆積装置市場ニュース
- 2022年10月：半導体および関連産業、学術施設向けのエッチング、成膜、表面処理加工装置の世界的メーカーであるサムコは、プラズマエンハンスト原子層蒸着（PEALD）装置の新製品「AD-800LPを発表した。本装置の主なターゲットは、カーボンニュートラルに不可欠な役割を果たす炭化ケイ素（SiC）および窒化ガリウム（GaN）材料の次世代パワーデバイス用ゲート酸化膜成膜である。
- 2022年6月：ピコサン社（Picosun Oy）が米国の大手半導体製造装置メーカー、アプライド・マテリアルズ社（Applied Materials, Inc.これは、CapManの営業史上、投資先企業の出口額で測定した最大の出口である。Picosunは最先端のALD（Atomic Layer Deposition）薄膜コーティング・ソリューションを世界の産業界に提供している。PicosunのALDソリューションは、ターンキー生産プロセスと、技術そのものの発明にさかのぼるこの分野における比類なき先駆的専門知識により、未来への技術的飛躍を可能にする。
原子層堆積装置市場レポート-目次
1. 導入
1.1 研究の前提条件と市場定義
1.2 研究の範囲
2. 研究方法
3. エグゼクティブサマリー
4. 市場洞察
4.1 市場概況
4.2 業界の魅力 - ポーター・ファイブ・フォース
4.2.1 サプライヤーの交渉力
4.2.2 消費者の交渉力
4.2.3 新規参入の脅威
4.2.4 身代わりの脅威
4.2.5 競争の激しさ
4.3 業界のバリューチェーン分析
4.4 テクノロジースナップショット: 他の成膜テクノロジーとの比較、メモリアプリケーションからロジック MPU アプリケーションへの ALD の進化、および ALD テクノロジーの種類に関する定性分析
4.5 新型コロナウイルス感染症による業界への影響の評価
5. 市場ダイナミクス
5.1 市場の推進力
5.1.1 マイクロエレクトロニクスおよび家庭用電化製品の需要の増加
5.1.2 コンピューティングおよびストレージ技術の進歩
5.2 市場の課題
5.2.1 効果的な堆積反応剤と材料による関連コストの増加
6. 市場セグメンテーション
6.1 用途別
6.1.1 半導体およびエレクトロニクス (コンピューティング部門、データセンター、家庭用電化製品を含む)
6.1.2 ヘルスケアおよび生物医学への応用
6.1.3 自動車
6.1.4 その他の用途
6.2 地理別
6.2.1 アメリカ大陸
6.2.2 ヨーロッパ、中東、アフリカ
6.2.3 アジア太平洋地域
7. 競争環境
7.1 会社概要
7.1.1 Applied Materials Inc.
7.1.2 Lam Research Corporation
7.1.3 Entegris Inc.
7.1.4 Veeco Instruments Inc.
7.1.5 Oxford Instruments PLC
7.1.6 Beneq Oy
7.1.7 Picosun Oy
7.1.8 ASM International
7.1.9 Tokyo Electron Limited
7.1.10 Kurt J. Lesker Company
8. 投資分析
9. 市場機会と将来のトレンド
原子層堆積装置産業区分
原子層堆積法は高度な成膜技術であり、数ナノメートルの超薄膜を精密に制御しながら堆積させることができる。ALDは優れた膜厚制御と均一性を提供し、高アスペクト比の3次元構造をコンフォーマルコーティングで覆うことを可能にする。このプロセスの自己限定的な性質と、それに関連したコンフォーマル成膜能力は、スケーリングと3Dを可能にするものとしてALDが重要である根拠となっている。
原子層堆積装置市場は、用途別（半導体・エレクトロニクス（コンピューティングセクター、データセンター、コンシューマーエレクトロニクスを含む）、ヘルスケア・バイオメディカル用途、自動車）、地域別（北米、欧州、アジア太平洋、中南米、MEA）に区分されている。市場規模および予測は、上記のすべてのセグメントについて金額（百万米ドル）で提供されています。
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別の地域やセグメントが必要ですか？
原子層堆積装置市場に関する調査FAQ
原子層蒸着装置の市場規模はどのくらいですか?
原子層蒸着装置の市場規模は、2024年に91億7,000万米ドルに達し、CAGR 17.02%で成長し、2029年までに201億4,000万米ドルに達すると予想されています。
現在の原子層蒸着装置の市場規模はどれくらいですか？
2024 年の原子層蒸着装置市場規模は 91 億 7,000 万ドルに達すると予測されています。
原子層蒸着装置市場の主要プレーヤーは誰ですか?
Applied Materials Inc.、Lam Research Corporation、Veeco Instruments Inc.、Tokyo Electron Limited、ASM International N.V.は、原子層堆積装置市場で活動している主要企業です。
原子層蒸着装置市場で最も急成長している地域はどこですか?
アジア太平洋地域は、予測期間 (2024 ～ 2029 年) にわたって最も高い CAGR で成長すると推定されています。
原子層蒸着装置市場で最大のシェアを誇る地域はどこですか?
2024年には、北米が原子層蒸着装置市場で最大の市場シェアを占めます。
この原子層蒸着装置市場は何年をカバーしており、2023年の市場規模はどれくらいですか?
2023 年の原子層蒸着装置市場規模は 78 億 4,000 万ドルと推定されています。このレポートは、原子層蒸着装置市場の過去の市場規模を2019年、2020年、2021年、2022年、2023年までカバーしています。レポートはまた、原子層蒸着装置の市場規模を2024年、2025年、2026年、2027年、2028年、2029年まで予測します。。
原子層堆積装置産業レポート
Mordor Intelligence™ Industry Reports が作成した、2024 年の ALD 装置市場シェア、規模、収益成長率の統計。 ALD 装置の分析には、2029 年までの市場予測見通しと過去の概要が含まれます。この業界分析のサンプルを無料のレポート PDF ダウンロードとして入手してください。
原子層蒸着装置 レポートスナップショット
