Volumen del mercado de Fotomáscara láser Industria
| Período de Estudio | 2019 - 2029 |
| Año Base Para Estimación | 2023 |
| CAGR | 2.00 % |
| Mercado de Crecimiento Más Rápido | Asia Pacífico |
| Mercado Más Grande | Asia Pacífico |
| Concentración del Mercado | Medio |
Jugadores Principales
*Nota aclaratoria: los principales jugadores no se ordenaron de un modo en especial |
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Análisis del mercado de fotomáscaras láser
Se espera que el mercado de fotomáscaras láser registre una tasa compuesta anual superior al 2% durante el período previsto (2021-2026). Una fotomáscara es una placa de sílice fundida, cubierta con un patrón de áreas opacas, transparentes y con cambio de fase que se proyectan sobre obleas en el proceso de litografía para definir el diseño de una capa de un circuito integrado
- A medida que los transistores se han vuelto cada vez más pequeños, las fotomáscaras se han vuelto más complejas para transferir el patrón a las obleas de silicio con precisión. En consecuencia, el proceso de creación de fotomáscaras se ha vuelto más avanzado, ya que incluso los defectos más leves en una fotomáscara pueden afectar el rendimiento del dispositivo de silicio.
- Verificar que un patrón de fotomáscara esté libre de defectos es muy crítico, especialmente en el caso de chips que generan altos ingresos. Cada chip es el producto final del proceso de litografía de semiconductores, siendo una parte integral la litografía óptica habilitada por una fuente de luz. Las fuentes de luz utilizadas para estas fotomáscaras son fuentes de luz ultravioleta profunda (DUV) y ultravioleta extrema (EUV).
- Con la creciente demanda de semiconductores con un rendimiento aún mayor para aplicaciones, como el análisis de big data, la inteligencia artificial y la comercialización de tecnología de automóviles sin conductor, la exposición a EUV está atrayendo la atención como tecnología de fabricación de semiconductores de próxima generación. Esta tendencia ha impulsado significativamente la producción de fotomáscaras eficaces. Toppan desarrolló en 2016 una fotomáscara EUV de próxima generación para semiconductores de última generación. La nueva fotomáscara minimiza los reflejos no deseados de la luz en las secciones periféricas durante la exposición EUV, emergiendo como una tecnología de fabricación de semiconductores de próxima generación.
