| Studienzeitraum | 2019 - 2029 |
| Basisjahr für die Schätzung | 2023 |
| CAGR | 2.00 % |
| Schnellstwachsender Markt | Asien-Pazifik |
| Größter Markt | Asien-Pazifik |
| Marktkonzentration | Mittel |
Hauptakteure
*Haftungsausschluss: Hauptakteure in keiner bestimmten Reihenfolge sortiert |
Marktanalyse für Laser-Fotomasken
Es wird erwartet, dass der Markt für Laserfotomasken im Prognosezeitraum (2021–2026) eine jährliche Wachstumsrate von über 2 % verzeichnen wird. Eine Fotomaske ist eine Quarzglasplatte, die mit einem Muster aus undurchsichtigen, transparenten und phasenverschiebenden Bereichen bedeckt ist, die im Lithographieprozess auf Wafer projiziert werden, um das Layout einer Schicht eines integrierten Schaltkreises zu definieren.
- Da Transistoren immer kleiner werden, sind Fotomasken komplexer geworden, um das Muster genau auf Siliziumwafer zu übertragen. Der Prozess der Herstellung von Fotomasken ist entsprechend fortschrittlicher geworden, da selbst geringfügige Defekte in einer Fotomaske die Leistung des Siliziumbauelements beeinträchtigen können.
- Die Überprüfung, ob ein Fotomaskenmuster fehlerfrei ist, ist sehr wichtig, insbesondere im Fall von Chips mit hohen Umsätzen. Jeder Chip ist das Endprodukt im Halbleiterlithographieprozess, wobei ein integraler Bestandteil die optische Lithographie ist, die durch eine Lichtquelle ermöglicht wird. Die für diese Fotomasken verwendeten Lichtquellen sind Lichtquellen im tiefen Ultraviolett (DUV) und extremen Ultraviolett (EUV).
- Angesichts der wachsenden Nachfrage nach Halbleitern mit noch höherer Leistung für Anwendungen wie Big-Data-Analyse, künstliche Intelligenz und die Kommerzialisierung der Technologie für selbstfahrende Autos erregt die EUV-Exposition als Halbleiterfertigungstechnologie der nächsten Generation zunehmend Aufmerksamkeit. Dieser Trend hat die Produktion effektiver Fotomasken erheblich vorangetrieben. Toppan entwickelte 2016 eine EUV-Fotomaske der nächsten Generation für hochmoderne Halbleiter. Die neue Fotomaske minimiert unerwünschte Lichtreflexionen an Randbereichen während der EUV-Belichtung und entwickelt sich zu einer Halbleiterfertigungstechnologie der nächsten Generation.
Markttrends für Laser-Fotomasken
Zunehmende Nutzung elektronischer Geräte
- Die Nachfrage nach elektronischen Geräten wie Tablets, Smartphones und Phablets steigt rasant. Insbesondere in Entwicklungsländern wie Indien, China und anderen Ländern steigt die Nachfrage nach diesen Geräten.
- Faktoren wie ein Anstieg des verfügbaren Einkommens und die wachsende Mittelschicht treiben die Nachfrage nach diesen Geräten noch weiter in die Höhe.
- Die oben genannten elektronischen Geräte werden von integrierten Schaltkreisen (Mikrochips) mit Strom versorgt; Eine Fotomaske enthält das Muster eines integrierten Schaltkreises und wird zu deren Herstellung verwendet.
Um die wichtigsten Trends zu verstehen, Musterbericht herunterladen
PDF herunterladen
Der asiatisch-pazifische Raum wird voraussichtlich einen erheblichen Anteil halten
- Die Länder im asiatisch-pazifischen Raum sind die führenden Regionen in der Halbleiterindustrie. China und Südkorea sind die führenden Länder auf dem Fotomaskenmarkt. In diesen Ländern sind die meisten wichtigen Elektronikhersteller ansässig.
- Darüber hinaus verzeichnet China eine enorme Nachfrage nach Halbleiterkomponenten, insbesondere integrierten Chips. Die chinesische Regierung hat auch einige Änderungen in ihrer Politik vorgenommen, um die Entwicklung der heimischen Halbleiterindustrie zu fördern.
- Darüber hinaus tragen Messen auch maßgeblich zum Wachstum der Region im Markt bei. Photomask Japan ist ein internationales Symposium und eine technische Ausstellung zu Fotomasken und Lithografie in Japan. Ziel des Symposiums ist es, Ingenieure und Forscher aus der ganzen Welt im Bereich Fotomasken, NGL-Masken und verwandte Technologien zusammenzubringen, um aktuelle Fortschritte, Anwendungen und zukünftige Trends zu diskutieren.
Um geografische Trends zu verstehen, Musterbericht herunterladen
PDF herunterladen
Überblick über die Laser-Fotomasken-Branche
Der Markt für Laserfotomasken ist hart umkämpft und besteht aus mehreren großen Akteuren. Viele Unternehmen erhöhen ihre Marktpräsenz durch die Einführung neuer Produkte oder durch strategische Fusionen und Übernahmen.
- Oktober 2018 – Heidelberg Instruments bringt den ULTRA Semiconductor Laser Mask Writer auf den Markt, die wirtschaftlichste Lösung für die Herstellung von Fotomasken mit 150-nm-Designknoten. Mit seinem hohen Durchsatz, minimaler Strukturgröße, ausgezeichnetem Overlay, Ausrichtung der 2. Schicht und CD-Gleichmäßigkeit ist ULTRA dies Ideal für vielfältige Anwendungen in der Halbleiterindustrie.
- März 2018 – Orbotech Ltd und KLA-Tencor Corporation haben eine Vereinbarung getroffen, wonach KLA-Tencor Orbotech übernehmen kann, um die Umsatzbasis der KLA-Tencor Corporation erheblich zu diversifizieren. Ziel dieser Vereinbarung ist es, die Marktchancen in den wachstumsstarken Bereichen Leiterplatten, Flachbildschirme und Halbleiterfertigung zu nutzen.
Marktführer für Laser-Fotomasken
-
KLA-Tencor Corporation
-
Applied Materials Inc.
-
Photronics Inc.
-
Nippon Filcon Co. Ltd
-
Toppan Printing Co. Ltd
- *Haftungsausschluss: Hauptakteure in keiner bestimmten Reihenfolge sortiert
Mehr Details zu Marktteilnehmern und Wettbewerbern benötigt?
PDF herunterladen
Segmentierung der Laser-Fotomasken-Branche
Eine Fotomaske ist ein Werkzeug, das für die Herstellung von Komponenten verwendet wird, darunter elektronische Geräte (Halbleiter), Displays, Leiterplatten und MEMS. Es handelt sich um eine Vorlage für die Musterung.
- Elektronische Geräte – Geräte wie CPUs und andere Speichergeräte, die Halbleiter/ICs erfordern, verwenden Fotomasken.
- Diskrete Komponenten mit einer einzigen Aufgabe – Transistoren und Speicher
- Lichtempfangende/-emittierende Elemente – CCD/CMOS-Bildsensoren und LED
- Anzeigegeräte – LCD und OLED
- MEMS (Micro Electro Mechanical System) – Beschleunigungssensoren
- Magnetköpfe unter anderem für Festplatten.
| Nach Fotomaskentyp | Absehen |
| Meister | |
| Erdkunde | Nordamerika |
| Europa | |
| Asien-Pazifik | |
| Lateinamerika | |
| Naher Osten und Afrika |
Benötigen Sie eine andere Region oder ein anderes Segment?
Jetzt anpassen
Häufig gestellte Fragen zur Marktforschung für Laser-Fotomasken
Wie groß ist der Markt für Laser-Fotomasken derzeit?
Der Markt für Laserfotomasken wird im Prognosezeitraum (2024-2029) voraussichtlich eine jährliche Wachstumsrate von 2 % verzeichnen.
Wer sind die Hauptakteure auf dem Laser-Fotomasken-Markt?
KLA-Tencor Corporation, Applied Materials Inc., Photronics Inc., Nippon Filcon Co. Ltd, Toppan Printing Co. Ltd sind die wichtigsten Unternehmen, die auf dem Markt für Laserfotomasken tätig sind.
Welches ist die am schnellsten wachsende Region im Laser-Fotomasken-Markt?
Schätzungen zufolge wird der asiatisch-pazifische Raum im Prognosezeitraum (2024–2029) mit der höchsten CAGR wachsen.
Welche Region hat den größten Anteil am Laser-Fotomasken-Markt?
Im Jahr 2024 hat der asiatisch-pazifische Raum den größten Marktanteil am Markt für Laser-Fotomasken.
Welche Jahre deckt dieser Markt für Laser-Fotomasken ab?
Der Bericht deckt die historische Marktgröße des Laser-Fotomasken-Marktes für die Jahre 2019, 2020, 2021, 2022 und 2023 ab. Der Bericht prognostiziert auch die Laser-Fotomasken-Marktgröße für die Jahre 2024, 2025, 2026, 2027, 2028 und 2029.
Unsere Bestseller-Berichte
Popular Semiconductors Reports
Popular Technology, Media and Telecom Reports
Other Popular Industry Reports
Branchenbericht für Laser-Fotomasken
Statistiken für den Marktanteil, die Größe und die Umsatzwachstumsrate von Laserfotomasken im Jahr 2024, erstellt von Mordor Intelligence™ Industry Reports. Die Analyse von Laserfotomasken umfasst eine Marktprognose bis 2029 und einen historischen Überblick. Holen Sie sich ein Beispiel dieser Branchenanalyse als kostenlosen PDF-Download.
