Marktgröße von Chemisch-mechanisches Polieren Industrie
| Studienzeitraum | 2019 - 2029 |
| Marktgröße (2024) | USD 6,09 Milliarden |
| Marktgröße (2029) | USD 8,63 Milliarden |
| CAGR(2024 - 2029) | 7.23 % |
| Schnellstwachsender Markt | Asien-Pazifik |
| Größter Markt | Asien-Pazifik |
| Marktkonzentration | Mittel |
Hauptakteure
*Haftungsausschluss: Hauptakteure in keiner bestimmten Reihenfolge sortiert |
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Marktanalyse für chemisch-mechanisches Polieren
Die Größe des Marktes für chemisch-mechanisches Polieren wird im Jahr 2024 auf 6,09 Milliarden US-Dollar geschätzt und soll bis 2029 8,63 Milliarden US-Dollar erreichen, was einem durchschnittlichen jährlichen Wachstum von 7,23 % im Prognosezeitraum (2024–2029) entspricht
Das chemisch-mechanische Polieren ist ein wichtiger verfahrenstechnischer Schritt im Herstellungsprozess von Halbleiterwafern. Bei diesem Prozessvorgang wird die Oberseite des Wafers poliert oder planarisiert, um mithilfe chemischer Aufschlämmung und mechanischer Bewegungen eine perfekt ebene Oberfläche zu erzeugen, die zur Herstellung haltbarerer und leistungsfähigerer Halbleitermaterialien erforderlich ist. Das traditionelle Polieren kommt in die Jahre und Verkäufer erwarten Lösungen aus einer Hand, die in einer separaten Montagelinie schneiden, prüfen und polieren können, anstatt verschiedene Maschinen zu verwenden, die viel Platz beanspruchen und kostenintensive Installation und umfangreiche Wartung erfordern. Obwohl solche Lösungen derzeit auf dem Markt weniger verbreitet sind, wird erwartet, dass sie im Prognosezeitraum die nächste Generation von Poliersystemen darstellen
- Wachsende Leistungsanforderungen an elektronische Geräte führen zu einem Bedarf an kleineren und robusteren Halbleitern und elektronischen Geräten, was wiederum die Nachfrage nach neueren Fertigungsmaterialien und -techniken, einschließlich CMP, ankurbelt. Die steigende Nachfrage nach elektronischen Produkten hat die Elektronikverpackungsindustrie vorangetrieben und die Erwartungen der Kunden an die Funktionen neuer elektronischer Geräte sind gestiegen.
- Die anderen Determinanten, die das Wachstum des CMP-Marktes im Prognosezeitraum antreiben, sind der wachsende Bedarf an CMP für die Waferplanarisierung, die hohe Nachfrage nach Produkten der Unterhaltungselektronik und der zunehmende Einsatz von mikroelektromechanischen Systemen (MEMS). Darüber hinaus wird mit einer wachsenden Zahl von Endanwendungen wie der IC-Herstellung, mikroelektromechanischen Systemen (MEMS), Optik, Verbindungshalbleitern und der Herstellung von Computerfestplatten ein Bedarf an chemisch-mechanischer Planarisierung oder Polierung erwartet erweitern.
